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双面对准投影式光刻机【重新招标】招标公告

   日期:2024-07-25     来源:中国电力招标采购网    作者:dlztb    浏览:0    
核心提示:招标公告 中航技国际经贸发展 受中国航空工业集团公司西安飞行自动控制研究所委托,对双面对准投影式光刻机【重新招标】进行公开

招标公告

中航技国际经贸发展 受中国航空工业集团公司西安飞行自动控制研究所委托,对双面对准投影式光刻机【重新招标】进行公开招标。现欢迎合格投标人参加投标。

1. 招标条件

本招标项目双面对准投影式光刻机【重新招标】 该项目已具备招标条件,现对双面对准投影式光刻机【重新招标】进行公开招标。

2.项目概况与招标范围

招标编号:0730-2411010218/01

设备名称:双面对准投影式光刻机【重新招标】

数量:壹套

项目概况与招标范围:双面对准投影式光刻机

3. 投标人资格要求

3.1 招标文件简要技术要求:设备用途: 双面对准投影式光刻机通过微缩投影成像方式,把掩模版上MEMS微结构图形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重复曝光在涂有胶层的硅片表面,并且能够通过背对准方式实现同一晶圆的双面加工。 其他详见招标文件具体要求。

3.2资格业绩要求:(1)资质要求:投标人应具备有效的营业执照或事业单位法人证书,投标文件中提供复印件。 制造商资质要求:制造商应具备有效的营业执照或事业单位法人证书,投标文件中提供复印件。 (2)财务要求:投标文件中提供2022年或2023年经审计的财务审计报告(至少包含资产负债表、现金流量表、利润表和审计报告)。 (3)投标人业绩:投标人提供2020年1月1日至今研制同类设备2套以上(含2套)的成功案例,需提供双方签署盖章的有效合同或技术协议复印件,以合同签订时间为准。 (4)信誉要求:在经营活动中,无严重违法失信记录,具有良好的信誉。提供相关证明材料(如信用中国或各级信用信息共享平台的查询结果)或信誉承诺书。 设备用途: 双面对准投影式光刻机通过微缩投影成像方式,把掩模版上MEMS微结构图形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重复曝光在涂有胶层的硅片表面,并且能够通过背对准方式实现同一晶圆的双面加工。 其他详见招标文件具体要求。

3.3 本次招标不接受联合体投标。

4.
未在中国电力招标采购网(www.dlztb.com)上注册会员的单位应先点击注册。登录成功后的在 招标会员 区根据招标公告的相应说明获取招标文件!
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来源:中国电力招标采购网
备注:欲购买招标文件的潜在投标人,注册网站并缴纳因特网技术及商务信息服务费后,查看项目业主,招标公告并下载资格预审范围,资质要求,
招标清单,报名申请表等。为保证您能够顺利投标,具体要求及购买标书操作流程按会员区招标信息详细内容为准。
编辑:ebid.eavic

 
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